ローカイド溶射
溶融熱源に酸素―アセチレン炎を使用し、棒状に焼結加工された溶射材料を利用する方式です。溶融温度は、約3000℃。完全に溶融された粒子だけを、エアジェット流で加速・噴射します。
2024.06.15
展示会情報
2024.06.15
展示会情報
2022.07.27
展示会情報
半導体製造装置 / 液晶製造装置 / 燃料電池 / 海洋開発 / 航空宇宙産業 / 学術研究
鉄鋼金属 / フィルム / 食品・薬品 / 繊維 / エネルギー / 化学 / 工作機械
鉄道 / 自動車 / 船舶
セラミック溶射
溶融熱源に酸素―アセチレン炎を使用し、棒状に焼結加工された溶射材料を利用する方式です。溶融温度は、約3000℃。完全に溶融された粒子だけを、エアジェット流で加速・噴射します。
セラミック溶射
超高温のガス状態のプラズマの超エネルギーを熱源として成膜材料を溶かし、爆発的に膨張するガスを収束したプラズマジェットで加速して、母材に叩きつけるようにコーティングします。
セラミック溶射
高圧の酸素と燃料を燃焼させることによって生じる高温で高速のフレームに、粉末溶射材料を投入する溶射方法です。高速のフレームで加熱・加速された粉末粒子が高速で基材に衝突するため、緻密で密着力の強い皮膜が形成されます。
その他金属溶射
溶射材料を線材に加工して電極とし、その先端でアークを発生させます。線材先端はアーク熱によって溶融され、エアージェットで微粒化・加速、母材に噴射されます。アーク溶射の特性として粗い皮膜や厚盛が可能になります。
その他金属溶射
粉末状にした溶射材料を、酸素-アセチレン炎中に送り込み、燃焼炎の流れに乗せて加熱しつつ噴射します。溶融温度が低いこと、噴射速度が遅いことが独自のメリットを生み出します。